Durst stellt auf der Labelexpo in Halle 9, Stand C50, Neuerungen für sein Tau-RSC-Portfolio für den UV-Inkjet-Etikettendruck vor. Darunter Workflow- und Vorstufenanwendungen speziell für den Etikettendruck, das Tau RSCi als modular aufgebautes UV-Inkjet-Etikettendrucksystem sowie migrationsarme Spezialtinten.
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